日本エジプト科学技術連携センター

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  • 1996

    Fabrication of single-crystal Si microstructures by anodization

    Higa, K. & Asano, T., 12月 1996, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers. Aoyagi, Y., Atoda, N., Fukui, T., Komuro, M., Kotera, M. & et al, A. (eds.). 12 B ed. Vol. 35. p. 6347-6695 349 p.

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    2 被引用数 (Scopus)
  • Gas species dependent charge build-up in reactive ion etching

    Arita, K. & Asano, T., 12月 1996, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers. Aoyagi, Y., Atoda, N., Fukui, T., Komuro, M., Kotera, M. & et al, A. (eds.). 12 B ed. Vol. 35. p. 6347-6695 349 p.

    研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿その他の章の寄稿

  • New self-aligned process for fabrication of microemitter arrays using selective etching of silicon

    Asano, T. & Yasuda, J., 12月 1996, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers. Aoyagi, Y., Atoda, N., Fukui, T., Komuro, M., Kotera, M. & et al, A. (eds.). 12 B ed. Vol. 35. p. 6347-6695 349 p.

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