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ギガフォトンNext GLP共同研究部門
大学院(研究院)
システム情報科学研究院
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(78)
フィンガープリント
ギガフォトンNext GLP共同研究部門が活動している研究トピックを掘り下げます。これらのトピックラベルは、この組織のメンバーの研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Physics
Excimer Laser
100%
Laser
96%
Laser Annealing
69%
Pulsed Laser
53%
Substrates
36%
Pulses
34%
Aluminium
28%
Atoms
28%
Thin Films
27%
Temperature
27%
Growth
26%
Diamonds
23%
Particle
23%
Crystals
22%
ZnO
21%
Crystallization
21%
Fabrication
20%
Area
19%
Diode
19%
Laser Ablation
18%
Ratios
18%
Region
15%
Utilization
15%
Liquids
15%
Insulators
14%
Optical Vortex
14%
Germanium
14%
Mobility
13%
Water
13%
Electrical Resistivity
13%
Diffusivity
13%
Ion Implantation
13%
Ablation
12%
Cooling
12%
Permittivity
11%
Fluence
11%
Room Temperature
10%
Semiconductor
10%
Pulsed Laser Deposition
9%
Annealing
9%
Targets
9%
Electrical Properties
9%
Solid State
9%
Nitrogen
8%
Pressure
8%
Ion
8%
Microstructure
8%
High Speed
8%
Solid Phase
8%
Oxide
8%
Air
8%
Quartz
7%
Transistor
7%
Grain Size
7%
Optical Device
7%
Coating
7%
Electron Density
7%
Luminescence
7%
Silicon Carbide
7%
Simulation
7%
Electrodes
7%
High Temperature
7%
Whispering Gallery Modes
7%
Ultraviolet Laser
7%
Implantation
7%
Microcrystals
7%
Increasing
7%
Graphene
6%
Electric Potential
6%
Width
6%
Laser Beams
6%
Defects
6%
Melting Point
6%
Nanorod
5%
Magnitude
5%
Zinc
5%
Solubility
5%
Images
5%
Gases
5%
Optical Properties
5%
Heating
5%
Silicon
5%
Radiation
5%
Value
5%
Spheres
5%
Droplet
5%
Passivity
5%
Material Science
Laser
68%
Film
60%
Thin Films
47%
Doping (Additives)
35%
Solution
35%
Devices
32%
Crystallization
29%
Surface
27%
Thin-Film Transistor
26%
Crystal
22%
Carrier Concentration
22%
Irradiation
20%
Thin Film Transistor
20%
Microsphere
19%
Annealing
16%
Coating
15%
Recrystallization
15%
Quartz
14%
Nanoparticle
14%
Temperature
14%
Defect
12%
Semiconductor Material
12%
Carrier Mobility
11%
Electronics
9%
Buffer Layer
9%
Laser Pulse
9%
Pulsed Laser Deposition
9%
Material
9%
Solid
9%
Gallium Nitride
7%
Optical Device
7%
Air
7%
Liquid
7%
Impurity
7%
Crystalline Material
7%
Oxide
6%
Flexible Substrate
6%
Germanium
6%
Oxygen Vacancy
6%
Characterization
5%
Contact Resistance
5%
ZnO
5%
Cone Structure
5%
Metal Oxide
5%
Electron Mobility
5%
Engineering
Laser Irradiation
58%
Thin-Film Transistor
50%
Thin Films
34%
Excimer Laser
33%
Zinc Oxide
19%
Activation
19%
Surfaces
18%
Fabrication
16%
Coating
15%
Annealing
13%
Radiation Effect
12%
Low-Temperature
12%
Characteristics
11%
Polysilicon
11%
Pn Junction
11%
Aluminum
10%
Dopant Activation
9%
Acid Solution
9%
Carrier Concentration
8%
Semiconductor Material
7%
Substrates
7%
Si Wafer
7%
Hydrodynamics
7%
Generators
7%
Germanium
7%
Implantation
7%
Buffer Layer
6%
Thermal Annealing
6%
Applications
6%
Water
6%
Defects
6%
Laser Fluence
5%
Lithography
5%
Stability
5%
Ideality Factor
5%
Silicon
5%