Pureに変更を加えた場合、すぐここに表示されます。

Fingerprint Terutake Hayashiが取り組む研究トピックをご確認ください。これらのトピックラベルは、この人物の研究に基づいています。これらを共に使用することで、固有の認識が可能になります。

  • 1 同様のプロファイル
Lasers Engineering & Materials Science
Microspheres Engineering & Materials Science
Polarization Engineering & Materials Science
Coordinate measuring machines Engineering & Materials Science
Fluorescence Engineering & Materials Science
Nanoparticles Engineering & Materials Science
trapping Physics & Astronomy
Abrasives Engineering & Materials Science

ネットワーク 最近の共同研究。丸をクリックして詳細を確認しましょう。

研究成果 1997 2019

CMP characteristics of quartz glass substrate by aggregated colloidal ceria slurry

Wakamatsu, K., Kurokawa, S., Toyama, T. & Hayashi, T., 11 1 2019, : : Precision Engineering. 60, p. 458-464 7 p.

研究成果: ジャーナルへの寄稿記事

Cerium compounds
Quartz
Glass
Substrates
Polishing
Abrasives
Viscosity
Nanoparticles
Shear viscosity
Compensation and Redress

Dynamics of photo-excitation for the ablation of 4H-SiC substrate using femtosecond laser

Matsunaga, K., Hayashi, T., Kurokawa, S., Yokoo, H., Hasegawa, N., Nishikino, M. & Matsukawa, Y., 11 13 2017.

研究成果: 会議への寄与タイプ論文

Photoexcitation
Ablation
Ultrashort pulses
Substrates
Ultrafast lasers

Effect of plasma formation on the double pulse laser excitation of cubic silicon carbide

Otobe, T., Hayashi, T. & Nishikino, M., 10 23 2017, : : Applied Physics Letters. 111, 17, 171107.

研究成果: ジャーナルへの寄稿記事

silicon carbides
pulses
excitation
lasers
energy absorption

Brownian diffusion analysis for nano-abrasives in CMP slurry by using fluorescence polarization method

Hayashi, T., Toshiki, S. & Kurokawa, S., 2 17 2016, 2015 International Conference on Planarization/CMP Technology, ICPT 2015. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., 7411985. (2015 International Conference on Planarization/CMP Technology, ICPT 2015).

研究成果: 著書/レポートタイプへの貢献会議での発言

Cytidine Monophosphate
Abrasives
Fluorescence
Polarization
Particle size analysis