年別の研究成果
年別の研究成果
フィンガープリント
Yoshiji Miyamuraが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
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Carbon monoxide concentrations in a Czochralski growth furnace
Miyamura, Y., Harada, H., Nakano, S., Nishizawa, S. & Kakimoto, K., 3月 15 2021, In: Journal of Crystal Growth. 558, 126015.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
1 被引用数 (Scopus) -
3d numerical analysis of the asymmetric three-phase line of floating zone for silicon crystal growth
Han, X. F., Liu, X., Nakano, S., Harada, H., Miyamura, Y. & Kakimoto, K., 2月 2020, In: Crystals. 10, 2, 121.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
Open Access2 被引用数 (Scopus) -
3D numerical study of the asymmetric phenomenon in 200 mm floating zone silicon crystal growth
Han, X. F., Liu, X., Nakano, S., Harada, H., Miyamura, Y. & Kakimoto, K., 2月 15 2020, In: Journal of Crystal Growth. 532, 125403.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
2 被引用数 (Scopus) -
Transient global modeling for the pulling process of Czochralski silicon crystal growth. I. Principles, formulation, and implementation of the model
Liu, X., Harada, H., Miyamura, Y., Han, X. F., Nakano, S., Nishizawa, S. I. & Kakimoto, K., 2月 15 2020, In: Journal of Crystal Growth. 532, 125405.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
4 被引用数 (Scopus) -
Transient global modeling for the pulling process of Czochralski silicon crystal growth. II. Investigation on segregation of oxygen and carbon
Liu, X., Harada, H., Miyamura, Y., Han, X. F., Nakano, S., Nishizawa, S. I. & Kakimoto, K., 2月 15 2020, In: Journal of Crystal Growth. 532, 125404.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
8 被引用数 (Scopus)