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絶縁膜上におけるGe(Si)薄膜の溶融成長: Si偏析効果による大粒径化
加藤 立奨, 黒澤 昌志, 横山 裕之,
佐道 泰造
, 宮尾 正信
電子デバイス工学
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
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学術誌
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査読
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「絶縁膜上におけるGe(Si)薄膜の溶融成長: Si偏析効果による大粒径化」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Physics
Growth
100%
Annealing
100%
Temperature
66%
Melting Point
66%
Crystals
66%
Insulators
66%
Region
33%
Cooling
33%
Phase Diagrams
33%
Liquidus
33%
Grain Formation
33%
Biochemistry, Genetics and Molecular Biology
Growth
100%
Temperature
66%
Crystal
66%
Melting Point
66%
Cooling
33%
Material Science
Liquid Films
100%
Crystal
66%