絶縁膜上におけるGe(Si)薄膜の溶融成長: Si偏析効果による大粒径化

加藤 立奨, 黒澤 昌志, 横山 裕之, 佐道 泰造, 宮尾 正信

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

フィンガープリント

「絶縁膜上におけるGe(Si)薄膜の溶融成長: Si偏析効果による大粒径化」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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