3D numerical simulation of free surface shape during the crystal growth of floating zone (FZ) silicon

Xue Feng Han, Xin Liu, Satoshi Nakano, Hirofumi Harada, Yoshiji Miyamura, Koichi Kakimoto

研究成果: Contribution to journalArticle

フィンガープリント 3D numerical simulation of free surface shape during the crystal growth of floating zone (FZ) silicon' の研究トピックを掘り下げます。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。

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