Active mask UV lithography systme for MEMS and μTAS applications

Terutake Hayashi, Takayuki Shibata, Takahiro Kawashima, Eiji Makino, Takashi Mineta, Toru Masuzawa

研究成果: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contribution

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルProceedings of the 21st Annual ASPE Meeting, ASPE 2006
出版ステータス出版済み - 12 1 2006
外部発表はい
イベント21st Annual Meeting of the American Society for Precision Engineering, ASPE 2006 - Monterey, CA, 米国
継続期間: 10 15 200610 20 2006

出版物シリーズ

名前Proceedings of the 21st Annual ASPE Meeting, ASPE 2006

その他

その他21st Annual Meeting of the American Society for Precision Engineering, ASPE 2006
国/地域米国
CityMonterey, CA
Period10/15/0610/20/06

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 機械工学

引用スタイル