Advances in CMP Polishing Technologies

Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa

研究成果: Book/ReportBook

7 被引用数 (Scopus)

抄録

Advances in CMP Polishing Technologies demystifies scientific developments and technological innovations, opening them up for new applications and process improvements in the semiconductor industry and other areas of precision engineering.

本文言語英語
出版社Elsevier Inc.
ISBN(印刷版)9781437778595
DOI
出版ステータス出版済み - 1 1 2012

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 工学(全般)

フィンガープリント

「Advances in CMP Polishing Technologies」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル