Atomic hydrogen temperature in silane plasmas used for the deposition of a-Si:H films
K. Miyazaki, T. Kajiwara, Kiichiro Uchino, K. Muraoka, T. Okada, M. Maeda
研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
5
被引用数
(Scopus)