Atomic hydrogen temperature in silane plasmas used for the deposition of a-Si:H films

K. Miyazaki, T. Kajiwara, K. Uchino, K. Muraoka, T. Okada, M. Maeda

研究成果: Contribution to journalArticle査読

5 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Atomic hydrogen temperature in silane plasmas used for the deposition of a-Si:H films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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