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Atomically controlled molecular beam epitaxy of ferromagnetic silicide Fe
3
Si on Ge
T. Sadoh
, M. Kumano, R. Kizuka, K. Ueda, A. Kenjo, M. Miyao
電子デバイス工学
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
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学術誌
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査読
33
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Atomically controlled molecular beam epitaxy of ferromagnetic silicide Fe
3
Si on Ge」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Material Science
Electronic Circuit
33%
Molecular Beam Epitaxy
100%
Silicide
33%
Temperature
33%
Transistor
33%
Transmission Electron Microscopy
33%