Bragg grating coupled high Q factor ring resonator using LSCVD deposited Si3N4 film

Xiaoyang Cheng, Shiyoshi Yokoyama

研究成果: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contribution

抄録

High-quality Si3N4 films with low optical loss were deposited at 150°C using LSCVD. A micro-ring resonator based on as-deposited Si3N4 with Q-factor of 5.2×104 has been demonstrated. Bragg gratings are fabricated at bus ends to improve coupling efficiency. The LSCVD deposited Si3N4 exemplify its viability as a photonic integration platform.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトル22nd Microoptics Conference, MOC 2017
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ページ96-97
ページ数2
ISBN(電子版)9784863486096
DOI
出版ステータス出版済み - 11 19 2017
イベント22nd Microoptics Conference, MOC 2017 - Tokyo, 日本
継続期間: 11 19 201711 22 2017

出版物シリーズ

名前22nd Microoptics Conference, MOC 2017
2017-November

その他

その他22nd Microoptics Conference, MOC 2017
国/地域日本
CityTokyo
Period11/19/1711/22/17

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 原子分子物理学および光学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料

フィンガープリント

「Bragg grating coupled high Q factor ring resonator using LSCVD deposited Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> film」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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