Characteristics of the plasma parameters in the fabrication of microcrystalline silicon thin films using 915 MHz ECR plasma

Doan Ha Thang, K. Sasaki, H. Muta, N. Itagaki, Y. Kawai

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

3 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Characteristics of the plasma parameters in the fabrication of microcrystalline silicon thin films using 915 MHz ECR plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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