Comparison between Ar+CH4 cathode and anode coupling chemical vapor depositions of hydrogenated amorphous carbon films

Sung Hwa Hwang, Ryosuke Iwamoto, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Tatsuyuki Nakatani, Masaharu Shiratani

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

4 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Comparison between Ar+CH4 cathode and anode coupling chemical vapor depositions of hydrogenated amorphous carbon films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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