Current understanding of mechanism of thermally activated delayed fluorescence: RISC beyond S-T energy gap

Takuya Hosokai, Hiroyuki Matsuzaki, Hajime Nakanotani, Chihaya Adachi

研究成果: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contribution

抄録

A mechanism of thermally activated delayed fluorescence (TADF) beyond the ordinary discussion of reverse intersystem crossing (RISC) determined by the energy gap between excited singlet (Si) and triplet (Ti) states is introduced. A new design strategy of highly efficient TADF materials will also be proposed.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトル24th International Display Workshops, IDW 2017
出版社International Display Workshops
ページ690-693
ページ数4
ISBN(電子版)9781510858992
出版ステータス出版済み - 1 1 2017
イベント24th International Display Workshops, IDW 2017 - Sendai, 日本
継続期間: 12 6 201712 8 2017

出版物シリーズ

名前Proceedings of the International Display Workshops
1
ISSN(印刷版)1883-2490

その他

その他24th International Display Workshops, IDW 2017
国/地域日本
CitySendai
Period12/6/1712/8/17

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • コンピュータ ビジョンおよびパターン認識
  • 人間とコンピュータの相互作用
  • 電子工学および電気工学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 放射線学、核医学およびイメージング

フィンガープリント

「Current understanding of mechanism of thermally activated delayed fluorescence: RISC beyond S-T energy gap」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル