Demonstration of n-MOSFET operation and internal charge analysis of SiO2/Al2O3 gate dielectric on (111) oriented 3C-SiC

R. Oka, K. Yamamoto, Dong Wang, H. Nakashima, S. Hishiki, K. Kawamura

研究成果: 会議への寄与タイプ学会誌査読

本文言語英語
ページ777-778
ページ数2
DOI
出版ステータス出版済み - 9月 2019
イベント2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2019) - Nagoya University, Nagoya, 日本
継続期間: 9月 2 20199月 5 2019

会議

会議2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2019)
国/地域日本
CityNagoya
Period9/2/199/5/19

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