Deposition of a-Si: H films by ECR plasma CVD using large diameter multi-slot antennae

Yoko Ueda, Hideaki Teranishi, Masayoshi Tanaka, Shunjiro Shinohara, Yoshinobu Kawai

    研究成果: Contribution to journalArticle査読

    8 被引用数 (Scopus)

    抄録

    A large diameter electron cyclotron resonance plasma was produced with a multi-slot antenna. The radial profile of the ion saturation current was examined as a function of input microwave power, gas pressure and magnetic mirror coil current to determine the experimental conditions necessary for a large diameter and uniform plasma at low pressure. Furthermore, the deposition of a-Si: H films was attempted onto 8 inch glass substrates using a gas mixture SiH4-10% He.

    本文言語英語
    ページ(範囲)503-507
    ページ数5
    ジャーナルSurface and Coatings Technology
    74-75
    PART 1
    DOI
    出版ステータス出版済み - 9 1995

    All Science Journal Classification (ASJC) codes

    • 化学 (全般)
    • 凝縮系物理学
    • 表面および界面
    • 表面、皮膜および薄膜
    • 材料化学

    フィンガープリント

    「Deposition of a-Si: H films by ECR plasma CVD using large diameter multi-slot antennae」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル