Deposition of a-Si: H Films with High Stability against Light Exposure by Reducing Deposition of Nanoparticles Formed in SiH4 Discharges

研究成果: Chapter in Book/Report/Conference proceedingChapter

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本文言語英語
ホスト出版物のタイトルIndustrial Plasma Technology
ホスト出版物のサブタイトルApplications from Environmental to Energy Technologies
出版社Wiley-VCH
ページ247-257
ページ数11
ISBN(印刷版)9783527325443
DOI
出版ステータス出版済み - 10 7 2010

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 材料科学(全般)

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