Deposition of cluster-free b-doped hydrogenated amorphous silicon films using sih 4+b10h1 4 multi-hollow discharge plasma chemical vapor deposition

Kazunori Koga, Kenta Nakahara, Yeon Won Kim, Takeaki Matsunaga, Daisuke Yamashita, Hidefumi Matsuzaki, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani

研究成果: Contribution to journalArticle査読

フィンガープリント

「Deposition of cluster-free b-doped hydrogenated amorphous silicon films using sih <sub>4</sub>+b10h1 <sub>4</sub> multi-hollow discharge plasma chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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