Deposition of cluster-free P-doped A-Si:H films using a multi-hollow discharge plasma CVD method

Kenta Nakahara, Yuki Kawashima, Muneharu Sato, Takeaki Matsunaga, Kousuke Yamamoto, William Makoto Nakamura, Daisuke Yamashita, Hidefumi Matsuzaki, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

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フィンガープリント

「Deposition of cluster-free P-doped A-Si:H films using a multi-hollow discharge plasma CVD method」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science