Determination of the c(2 × 2) structure formed on Cu(001) upon Li adsorption: a low-energy electron diffraction analysis

Seigi Mizuno, Hiroshi Tochihara, Takaaki Kawamura

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抄録

We have determined the c(2 × 2) structure formed on Cu(001) upon Li adsorption at 180 K by low-energy electron diffraction analysis. It is found that an overlayer of Li atoms sitting on the fourfold hollow sites (coverage 0.5) is preferred with a Cu-Li interlayer spacing of 1.96 ± 0.08 Å. The radius of the Li atom is 92% of the Li metallic one. The interlayer spacing between the first and second layers of Cu(001) is 1.81 ± 0.04 Å, and this is the same value of spacing of the clean Cu(001) surface.

本文言語英語
ページ(範囲)239-245
ページ数7
ジャーナルSurface Science
293
3
DOI
出版ステータス出版済み - 8 20 1993
外部発表はい

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 材料化学

フィンガープリント

「Determination of the c(2 × 2) structure formed on Cu(001) upon Li adsorption: a low-energy electron diffraction analysis」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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