Development of a RIMS-based FFDL system at the experimental fast reactor JOYO

Hideki Harano, Chikara Ito, Kenichi Watanabe, Tetsuo Iguchi

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9 被引用数 (Scopus)

抄録

A series of experiments has been examined the applicability of RIMS to the trace xenon isotopic analysis needed for the tagging gas FFDL. The measurement of the JOYO cover gas equivalent clarified the existence of non-resonantly produced argon ions which could disturb the trace analysis. We proposed to apply the mass gating and solved the problem, which enabled us to succeed in demonstrating that RIMS satisfies the requirement for the FFDL and the MONJU.

本文言語英語
ページ(範囲)307-310
ページ数4
ジャーナルInternational Journal of Applied Electromagnetics and Mechanics
14
1-4 SPEC.
DOI
出版ステータス出版済み - 2001
外部発表はい

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • 材料力学
  • 機械工学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Development of a RIMS-based FFDL system at the experimental fast reactor JOYO」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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