Dose-Dependent Etching Selectivity in SiO2by Focused Ion Beam

Taizoh Sadoh, Hiroomi Eguchi, Atsushi Kenjo, Masanobu Miyao

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

寄稿の翻訳タイトルDose-Dependent Etching Selectivity in SiO2by Focused Ion Beam
本文言語未定義/不明
ページ(範囲)1855-1858
ページ数4
ジャーナルJapanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters
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出版ステータス出版済み - 4月 30 2003

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