Effective work function modulation of TaN metal gate on Hf O2 after postmetallization annealing

Youhei Sugimoto, Masanari Kajiwara, Keisuke Yamamoto, Yuusaku Suehiro, Dong Wang, Hiroshi Nakashima

研究成果: Contribution to journalArticle査読

26 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Effective work function modulation of TaN metal gate on Hf O2 after postmetallization annealing」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy