Effects of gas velocity on deposition rate and amount of cluster incorporation into a-Si:H films fabricated by SiH4 plasma chemical vapor deposition

Takashi Kojima, Susumu Toko, Kazuma Tanaka, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

研究成果: Contribution to journalArticle査読

3 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Effects of gas velocity on deposition rate and amount of cluster incorporation into a-Si:H films fabricated by SiH<sub>4</sub> plasma chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy