Electron-temperature dependence of nitrogen dissociation in 915 MHz ECR plasma

N. Itagaki, S. Iwata, K. Muta, A. Yonesu, S. Kawakami, N. Ishii, Y. Kawai

研究成果: ジャーナルへの寄稿会議記事査読

52 被引用数 (Scopus)

抄録

The nitrogen molecular dissociation level in 915 MHz ECR plasma was evaluated as a function of the electron temperature by optical emission spectroscopy. The intensity ratio of N line to N2 line, which provides information on changes in the degree of dissociation of nitrogen molecules, was found to increase monotonously from 0.01 to 0.07 with increasing the electron temperature from 2 to 7 eV. Furthermore, it was confirmed that increasing the electron density and/or the introduction of argon in the discharge significantly enhanced the nitrogen molecular dissociation level.

本文言語英語
ページ(範囲)259-263
ページ数5
ジャーナルThin Solid Films
435
1-2
DOI
出版ステータス出版済み - 7月 1 2003
イベントProccedings of the Joint International Plasma Symposium - Jeju Island, 韓国
継続期間: 7月 1 20027月 4 2002

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 金属および合金
  • 材料化学

フィンガープリント

「Electron-temperature dependence of nitrogen dissociation in 915 MHz ECR plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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