EPITAXIAL GROWTH OF FLUORIDE FILMS ON SILICON SUBSTRATES.

Hiroshi Ishiwara, Tanemasa Asano

研究成果: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contribution

5 被引用数 (Scopus)
本文言語英語
ホスト出版物のタイトルMaterials Research Society Symposia Proceedings
出版社North-Holland
ページ393-403
ページ数11
ISBN(印刷版)0444009051
出版ステータス出版済み - 1 1 1984

出版物シリーズ

名前Materials Research Society Symposia Proceedings
25
ISSN(印刷版)0272-9172

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • Materials Science(all)
  • Condensed Matter Physics
  • Mechanics of Materials
  • Mechanical Engineering

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