Erratum: Border trap evaluation for SiO2/GeO2/Ge gate stacks using deep-level transient spectroscopy (J. Appl. Phys. (2018) 124 (205303) DOI: 10.1063/1.505529)

Wei Chen Wen, Keisuke Yamamoto, Dong Wang, Hiroshi Nakashima

研究成果: ジャーナルへの寄稿コメント/討論査読

フィンガープリント

「Erratum: Border trap evaluation for SiO2/GeO2/Ge gate stacks using deep-level transient spectroscopy (J. Appl. Phys. (2018) 124 (205303) DOI: 10.1063/1.505529)」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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