Ex situ annealing method for c-axis oriented barium ferrite thick films

S. H. Gee, Y. K. Hong, Terumitsu Tanaka, M. H. Park

研究成果: Contribution to journalArticle査読

18 被引用数 (Scopus)

抄録

The development of a rf sputter deposition method to fabricate a 0.63 μm thick stack composed of several BaM layers was reported. The thickness of each layer was 0.09 μM to improve the c-axis orientation of the 0.63 μm thick film. Prior to the deposition of succeeding layer, each 0.09 μm layer ex-situ annealed at 800°C for 10 minutes. A squareness of 0.81 and 0.62 was showed by 0.63 μm thick BaM multilayered and single layered films, respectively.

本文言語英語
ページ(範囲)7507-7509
ページ数3
ジャーナルJournal of Applied Physics
93
10 2
DOI
出版ステータス出版済み - 5 15 2003
外部発表はい

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 物理学および天文学(その他)
  • 物理学および天文学(全般)

フィンガープリント

「Ex situ annealing method for c-axis oriented barium ferrite thick films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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