Fabrication and evaluation of a thermoelectric microdevice on a free-standing substrate

J. Kurosaki, A. Yamamoto, S. Tanaka, J. Cannon, K. Miyazaki, H. Tsukamoto

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

21 被引用数 (Scopus)

抄録

Using shadow masks prepared by standard microfabrication processes, we fabricated in-plane thermoelectric microdevices (4 mm × 4 mm) made of bismuth telluride thin films, and evaluated their performance. We used Bi 0.4Te 3.0Sb 1.6 as the p-type semiconductor and Bi 2.0Te 2.7Se 0.3 as the n-type semiconductor. We deposited p- and n-type thermoelectric thin films on a free-standing thin film of Si 3N 4 (4 mm × 4 mm × 4 μm) on a Si wafer, and measured the output voltages of the microdevices while heating at the bottom of the Si substrate. The maximum output voltage of the thermoelectric device was 48 mV at 373 K.

本文言語英語
ページ(範囲)1326-1330
ページ数5
ジャーナルJournal of Electronic Materials
38
7
DOI
出版ステータス出版済み - 7月 2009
外部発表はい

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • 電子工学および電気工学
  • 材料化学

フィンガープリント

「Fabrication and evaluation of a thermoelectric microdevice on a free-standing substrate」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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