Fabrication of bistable prestressed curved-beam

Ivransa Z. Pane, Tanemasa Asano

研究成果: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contribution

4 被引用数 (Scopus)

抄録

We have shown that prestressed curved-beam of single crystal Si can be fabricated through the sequences of the standard CMOS process using SOI. The theoritical analysis procedure for the bistable operation was established. Miniaturized bistable curved-beam will be applied to memory devices.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルDigest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2007; 20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC
ページ390-391
ページ数2
DOI
出版ステータス出版済み - 12 1 2007
イベントs20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2007 - Kyoto, 日本
継続期間: 11 5 200711 8 2007

出版物シリーズ

名前Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2007; 20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC

その他

その他s20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2007
国/地域日本
CityKyoto
Period11/5/0711/8/07

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • ハードウェアとアーキテクチャ
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Fabrication of bistable prestressed curved-beam」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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