Fabrication of metal-nitride/Si contacts with low electron barrier height

K. Yamamoto, K. Asakawa, D. Wang, H. Nakashima

    研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

    フィンガープリント

    「Fabrication of metal-nitride/Si contacts with low electron barrier height」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    Engineering & Materials Science