Fabrication of TiN/Ge contact with extremely low electron barrier height

Keisuke Yamamoto, Kenji Harada, Haigui Yang, Dong Wang, Hiroshi Nakashima

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

24 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Fabrication of TiN/Ge contact with extremely low electron barrier height」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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