FORMATION OF AND EPITAXIAL Si/INSULATOR/Si STRUCTURE BY VACUUM DEPOSITION OF CaF SUB (2) AND Si.

Tanemasa Asano, Hiroshi Ishiwara

研究成果: Contribution to conferencePaper

元の言語英語
ページ187-191
ページ数5
出版物ステータス出版済み - 1 1 1982

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