Formation of CoSi2 gate electrode for MOS electron tunneling emitters

Yi Qun Zhang, Atsushi Kenjo, Taizoh Sadoh, Hiroshi Nakashima, Toshio Tsurushima

研究成果: Contribution to journalArticle査読

フィンガープリント 「Formation of CoSi2 gate electrode for MOS electron tunneling emitters」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science