Formation of SiO2 thin films on polycrystalline silicon thin films from polysilazane solution by CO2 laser annealing

Daisuke Hishitani, Masahiro Horita, Yasuaki Ishikawa, Yosuke Watanabe, Hiroshi Ikenoue, Yukiharu Uraoka

研究成果: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contribution

1 被引用数 (Scopus)

抄録

We investigated the formation of SiO2 thin films on polycrystalline silicon thin films by CO2 laser irradiation of perhydropolysilazane. We succeeded in the formation of SiO2 containing few OH groups and having uniform composition in the thickness direction. We considered the effect of CO2 laser irradiation was related to bond vibration.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトル20th International Display Workshops 2013, IDW 2013
出版社International Display Workshops
ページ419-422
ページ数4
ISBN(電子版)9781510827783
出版ステータス出版済み - 1 1 2013
イベント20th International Display Workshops 2013, IDW 2013 - Sapporo, 日本
継続期間: 12 3 201312 6 2013

出版物シリーズ

名前Proceedings of the International Display Workshops
1
ISSN(印刷版)1883-2490

その他

その他20th International Display Workshops 2013, IDW 2013
国/地域日本
CitySapporo
Period12/3/1312/6/13

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • コンピュータ ビジョンおよびパターン認識
  • 人間とコンピュータの相互作用
  • 電子工学および電気工学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 放射線学、核医学およびイメージング

フィンガープリント

「Formation of SiO2 thin films on polycrystalline silicon thin films from polysilazane solution by CO2 laser annealing」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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