Forming SiO2 thin film by CO2 laser annealing of spin-on glass on polycrystalline silicon thin film

Daisuke Hishitani, Masahiro Horita, Yasuaki Ishikawa, Hiroshi Ikenoue, Yosuke Watanabe, Yukiharu Uraoka

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

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抄録

Per-hydro-polysilazane as SiO2 precursor was spin-coated on the polycrystalline silicon substrate and CO2 laser was irradiated to per-hydro-polysilazane for transformation into SiO2. Atomic force microscope analysis showed that the appropriate condition of CO2 laser is possible to form flat SiO2 film on poly-Si surface which has ridges. Fourier transform infrared spectroscopy, x-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry analysis revealed that high quality and uniform SiO2 film in the depth direction was obtained by CO2 laser annealing compared with conventional furnace annealing.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルProceedings of the 20th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
ホスト出版物のサブタイトルTFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2013
ページ163-166
ページ数4
出版ステータス出版済み - 11月 22 2013
イベント20th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2013 - Kyoto, 日本
継続期間: 7月 2 20137月 5 2013

出版物シリーズ

名前Proceedings of the 20th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2013

その他

その他20th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2013
国/地域日本
CityKyoto
Period7/2/137/5/13

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • ハードウェアとアーキテクチャ
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Forming SiO2 thin film by CO2 laser annealing of spin-on glass on polycrystalline silicon thin film」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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