Gas-phase modeling of chlorine-based chemical vapor deposition of silicon carbide

Stefano Leone, Olof Kordina, Anne Henry, Shin Ichi Nishizawa, Örjan Danielsson, Erik Janzén

研究成果: Contribution to journalArticle査読

14 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Gas-phase modeling of chlorine-based chemical vapor deposition of silicon carbide」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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