Graphene optical modulator on silicon waveguide controlled by fine metal-Top gate

D. Y. Hori, R. Kou, T. Tsuchizawa, Y. Kobayashi, Y. Harada, H. Hibino, T. Yamamoto, K. Yamada, H. Nakajima

    研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

    抄録

    We proposed a fine-metal gated graphene optical modulator on a CMOS compatible silicon photonic platform. A maximum extinction ratio of 1.2dB is realized by using a 25-nm thick Al2O3 gate capacitor. Optimized device structure and initial Fermi energy dependences are discussed.

    本文言語英語
    ホスト出版物のタイトル2016 IEEE 13th International Conference on Group IV Photonics, GFP 2016
    出版社IEEE Computer Society
    ページ90-91
    ページ数2
    ISBN(電子版)9781509019038
    DOI
    出版ステータス出版済み - 11月 8 2016
    イベント13th IEEE International Conference on Group IV Photonics, GFP 2016 - Shanghai, 中国
    継続期間: 8月 24 20168月 26 2016

    出版物シリーズ

    名前IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP
    2016-November
    ISSN(印刷版)1949-2081

    その他

    その他13th IEEE International Conference on Group IV Photonics, GFP 2016
    国/地域中国
    CityShanghai
    Period8/24/168/26/16

    !!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

    • 電子工学および電気工学
    • セラミックおよび複合材料
    • 電子材料、光学材料、および磁性材料

    フィンガープリント

    「Graphene optical modulator on silicon waveguide controlled by fine metal-Top gate」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル