Growth Control of Clusters in Reactive Plasmas and Application to High-Stability a-Si: H Film Deposition

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿

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本文言語英語
ホスト出版物のタイトルAdvanced Plasma Technology
出版社Wiley - VCH Verlag GmbH & CO. KGaA
ページ227-242
ページ数16
ISBN(印刷版)9783527405916
DOI
出版ステータス出版済み - 4月 8 2008

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 物理学および天文学(全般)

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