H assisted control of quality and conformality in Cu film deposition using plasma CVD method

Masaharu Shiratani, Hong Jie Jin, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Toshio Kinoshita, Yukio Watanabe

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

2 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「H assisted control of quality and conformality in Cu film deposition using plasma CVD method」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Chemical Compounds

Earth & Environmental Sciences

Engineering & Materials Science