In-situ measurements of cluster volume fraction in silicon thin films using quartz crystal microbalances

Yeonwon Kim, Kosuke Hatozaki, Yuji Hashimoto, Hyunwoong Seo, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

8 被引用数 (Scopus)

抄録

We have carried out in-situ measurements of cluster volume fraction in silicon films during deposition by using quartz crystal microbalances (QCM's) together with a cluster-eliminating filter. The cluster volume fraction in films is deduced from in-situ measurements of film deposition rates with and without silicon clusters using QCM's. The resulls show that the higher deposition rate leads to the higher volume fraction of clusters.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルAmorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology - 2012
ページ307-311
ページ数5
DOI
出版ステータス出版済み - 11月 28 2012
イベント2012 MRS Spring Meeting - San Francisco, CA, 米国
継続期間: 4月 9 20124月 13 2012

出版物シリーズ

名前Materials Research Society Symposium Proceedings
1426
ISSN(印刷版)0272-9172

その他

その他2012 MRS Spring Meeting
国/地域米国
CitySan Francisco, CA
Period4/9/124/13/12

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 材料科学(全般)
  • 凝縮系物理学
  • 材料力学
  • 機械工学

フィンガープリント

「In-situ measurements of cluster volume fraction in silicon thin films using quartz crystal microbalances」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル