In-situ monitoring of dopant concentration variation in a silicon melt during Czochralski growth

Koichi Kakimoto, Minoru Eguchi, Taketoshi Hibiya

研究成果: Contribution to journalArticle査読

14 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「In-situ monitoring of dopant concentration variation in a silicon melt during Czochralski growth」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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