In-situ observation of impurity diffusion boundary layer in silicon Czochralski growth

Koichi Kakimoto, Minoru Eguchi, Hisao Watanabe, Taketoshi Hibiya

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

29 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「In-situ observation of impurity diffusion boundary layer in silicon Czochralski growth」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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