Interlayer Void Space as the Key Semipermeable Site for Sieving Molecules and Leaking Ions in Graphene Oxide Filter

Mohammad Razaul Karim, Md Saidul Islam, Nurun Nahar Rabin, Hiroshi Takehira, Kosuke Wakata, Masaaki Nakamura, Ryo Ohtani, Kei Toda, Shinya Hayami

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

11 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Interlayer Void Space as the Key Semipermeable Site for Sieving Molecules and Leaking Ions in Graphene Oxide Filter」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Chemical Compounds