Latest trends in ultra-precision polishing/chemical mechanical polishing (CMP) (Part 2) - CMP technology and tribo-chemical assisted polishing

Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, Osamu Ohnishi, Tsutomu Yamazaki

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

本文言語英語
ページ(範囲)809-813
ページ数5
ジャーナルToraibarojisuto/Journal of Japanese Society of Tribologists
55
11
出版ステータス出版済み - 2010

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 機械工学
  • 材料力学
  • 材料化学
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 表面および界面

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