Low loss SOI-based high-mesa waveguides fabricated using neutral loop discharge (NLD) plasma etching for compact breath-sensing system

Satoshi Yano, Kosuke Kameyama, Kiichi Hamamoto

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

1 被引用数 (Scopus)

抄録

SOI-based Si/SiO2 high-mesa waveguide has been fabricated by using neutral loop discharge (NLD) plasma etching. Significant loss reduction of about 50%, resulted in 0.3dB/cm propagation loss, has been achieved.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルIntegrated Photonics and Nanophotonics Research and Applications, IPNRA 2007
出版社Optical Society of America (OSA)
ISBN(印刷版)1557528446, 9781557528445
DOI
出版ステータス出版済み - 2007
イベントIntegrated Photonics and Nanophotonics Research and Applications, IPNRA 2007 - Salt Lake City, UT, 米国
継続期間: 7月 8 20077月 8 2007

出版物シリーズ

名前Optics InfoBase Conference Papers
ISSN(電子版)2162-2701

その他

その他Integrated Photonics and Nanophotonics Research and Applications, IPNRA 2007
国/地域米国
CitySalt Lake City, UT
Period7/8/077/8/07

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 器械工学
  • 原子分子物理学および光学

フィンガープリント

「Low loss SOI-based high-mesa waveguides fabricated using neutral loop discharge (NLD) plasma etching for compact breath-sensing system」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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