Low-temperature deposition of high-quality silicon dioxide films by sputtering-type electron cyclotron resonance plasma

H. Nakashima, K. Furukawa, Y. C. Liu, D. W. Gao, Y. Kashiwazaki, K. Muraoka, K. Shibata, T. Tsurushima

    研究成果: Contribution to journalArticle査読

    21 被引用数 (Scopus)

    フィンガープリント 「Low-temperature deposition of high-quality silicon dioxide films by sputtering-type electron cyclotron resonance plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    Chemical Compounds

    Engineering & Materials Science

    Physics & Astronomy