Low-temperature fabrication of polycrystalline Si thin film using Al-induced crystallization without native Al oxide at amorphous Si/Al interface

Youhei Sugimoto, Naoki Takata, Takeshi Hirota, Ken Ichi Ikeda, Fuyuki Yoshida, Hideharu Nakashima, Hiroshi Nakashima

研究成果: Contribution to journalArticle査読

67 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Low-temperature fabrication of polycrystalline Si thin film using Al-induced crystallization without native Al oxide at amorphous Si/Al interface」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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