Lowering of the Substrate Bias Voltage for Deposition of Cubic Boron Nitride in Microwave Plasma

T. Nakakuma, K. Teii, S. Matsumoto

研究成果: Contribution to journalArticle査読

フィンガープリント 「Lowering of the Substrate Bias Voltage for Deposition of Cubic Boron Nitride in Microwave Plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy