Nano-artifact metrics based on random collapse of resist

Tsutomu Matsumoto, Morihisa Hoga, Yasuyuki Ohyagi, Mikio Ishikawa, Makoto Naruse, Kenta Hanaki, Ryosuke Suzuki, Daiki Sekiguchi, Naoya Tate, Motoichi Ohtsu

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

20 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Nano-artifact metrics based on random collapse of resist」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science